导语
C/SiC 轻质耐热,Nb 合金高强韧,但两者热膨胀差 3 倍,传统钎焊 500 ℃ 就“掉链子”。哈工大 Junlei Qi 团队今天上线的 Carbon 新作,用 10 秒焦耳闪烧给 C/SiC 套上一层 170 μm FeCoCrNiMo 高熵金属化层(HEML),室温剪切强度飙到 177 MPa,500 ℃ 仍保持 102 MPa,断裂应变从 7 % 拉到 32 %。一次实验,同时解决“应力崩溃”和“高温软化”两大痛点,航天大尺寸喷管(>110 mm)直接可用!
研究亮点
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极速工艺:50 A/10 s 焦耳热冲击,>10³ K/s 淬火,HEML 秒成型。
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高熵设计:FCC+BCC+μ+σ 四相协同,晶格畸变能密度提升 3 倍。
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应力消散:残余应力峰值从 1.2 GPa 降到 0.7 GPa,降幅 41.7 %。
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高温稳定:μ/σ 相软化温度 >800 ℃,500 ℃ 剪切强度保持率 57.6 %。
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脆-韧转变:断口出现纤维拔出+HEML 塑性变形,韧性提升 4.6 倍。
图文解析
图1 | 10 秒闪烧实录
氩气保护下,C/SiC 包覆粉体通电即熔,1700 ℃→室温 <1 s,HEML 均匀致密无孔。
图2 | 厚度-工艺窗口
50 A/10 s 锁定 170 μm;电流过大或延长时间导致金属飞溅,厚度反而下降。
图3 | 多相高熵指纹
XRD 四相共存;μ(Mo₆Fe₇)、σ(Cr₂Fe) 亚稳相被“速冻”保留;EDS 显示元素均匀分布。
图4 | 晶格畸变
TEM-GPA 测得 FCC-σ 界面拉伸应变 +17 %,BCC-μ 位错网耗散应力,阻止裂纹扩展。
图5 | 界面化学
HEML 抑制 Nb 向 C/SiC 扩散,脆性反应层由 5 μm 缩至 <100 nm;XPS 证实高熵硅化物/碳化物薄层键合。
图6 | 应力分布
有限元模拟:170 μm HEML 将应力从接头转移至金属层内部,>200 μm 后缺陷增多,效果饱和。
图7 | 力学性能
室温剪切 177 MPa;500 ℃ 仍 102 MPa;应力-应变曲线出现明显屈服平台,脆断→韧断。
图8 | 厚度-性能平衡
170 μm 是“甜蜜点”;过厚裂纹萌生,过薄应力无法充分释放。
图9 | 断口形貌
纤维拔出+HEML 塑性残留,韧性断裂特征明显,表面无脆性解理面。
图10 | 高温长时稳定性
500 ℃ 持续 100 h,接头剪切强度无衰减,HEML 微结构保持稳定。
总结展望
UHNF-HEML 技术用“毫秒热冲击+多相高熵”组合拳,为 C/SiC-Nb 异质连接装上缓冲垫+高温装甲。下一步:
• 成分梯度设计,适配更多陶瓷-金属体系;
• 与连续焦耳热装备耦合,实现米级构件卷对卷处理;
• 极端热力耦合工况下的 1000 h 服役验证。
科研装备TIME
想复现 10 秒闪烧?深圳中科精研 HTS 焦耳超快加热装置已开放试用:
• 秒级升温 100–3000 ℃,可一次处理 2-4 组样品;
• 内置红外测温+气氛保护模块,完美复现 50 A/10 s 工艺窗口;
• 已助力哈工大、MIT 等团队完成 Science/Nat. Mater./Carbon 级实验。