Cadence cdsSPICE使用说明

### Cadence cdsSPICE 使用说明 #### 一、概述 Cadence cdsSPICE 是一款集成在 Cadence Virtuoso 平台上的高级 SPICE 仿真工具，它支持精确的电路行为级仿真，广泛应用于集成电路设计流程中。本文档旨在通过一个具体的非门版图绘制示例，详细介绍如何使用 Cadence cdsSPICE 进行版图编辑的基本操作。 #### 二、建立版图文件 ##### 2.1 建立版图文件 在开始绘制非门的版图之前，首先需要使用 Library Manager 创建一个新的库 `myLib`。创建新库的过程在前文中已有详细介绍，此处不再赘述。不同之处在于，由于本次目标是创建版图文件，因此在 Technology File 选项中必须选择“Compile a New Tech File” 或者 “Attach to an Existing Tech File”。本例中，我们将选择前者创建一个新的技术文件。 接下来，会出现一个 Load Tech File 的对话框（如图 2-1-1 所示），在 ASCII Technology File 中输入 `csmc1o0.tf` 即可。之后，便可以创建名为 `inv` 的 cell。 为了确保 cell 的完整性，建议首先创建 `inv` 的 Schematic View 和 Symbol View（具体步骤在前文中已介绍）。以 PMOS 长度为 6u、宽度为 0.6u；NMOS 长度为 3u、宽度为 0.6u 为例，Model 仍选用 `hj3p` 和 `hj3n`。然后创建其 Layout View，具体步骤是在 Tool 菜单中选择 Virtuoso - Layout，再点击 OK。 #### 三、绘制 Inverter 掩膜版图的准备工作 ##### 3.1 绘制前的准备工作 在 Library Manager 中打开 `inv` 这个 cell 的 Layout View。此时，Virtuoso Editing 窗口会自动打开（如图 2-2-1 所示）。 在版图编辑窗口中，可以看到由三个主要部分组成的界面：Icon Menu、Menu Banner 和 Status Banner。Icon Menu 通常位于版图图框的左侧，列出了一系列常用命令的图标。用户只需将鼠标悬停在图标上，即可查看其对应的操作指令。Menu Banner 包含了编辑版图所需的所有指令，并按类别进行了分组。Status Banner 显示坐标、当前编辑指令等状态信息。此外，版图视图外侧还有一个 Layer and Selection Window (LSW)，用于选择编辑图形所在的层以及哪些层可见。 由于所需的部分版图层次在初始 LSW 中并不存在，因此需要建立自定义工艺库所需的版图层次及其显示属性。对于本例中的非门版图，至少需要以下版图层次： - Nwell: N 型阱 - Active: 有源区 - Pselect: P 型注入掩膜 - Nselect: N 型注入掩膜 - Contact: 引线孔，用于连接金属与多晶硅/有源区 - Metal1: 第一层金属，用于水平布线，如电源和地 - Via: 通孔，用于连接 Metal1 和 Metal2 - Metal2: 第二层金属，用于垂直布线，如信号源的 I/O 口 - Text: 标签 - Poly: 多晶硅，用于制作 MOS 的栅极 ##### 3.2 修改 LSW 中的层次 要修改 LSW 中的层次，需要按照以下步骤进行： 1. 切换至 CIW (Circuit Information Window) 窗口，在 Technology File 的下拉菜单中选择 “Edit Layers”，如图 2-2-3 所示。 2. 在 Technology Library 中选择库 `mylib`，使用 Delete 功能移除不需要的层次。然后点击 Add 添加必需的层次。Add 按钮打开如下图的窗口（图 2-2-4）。 3. 在 Layer Name 中输入所需添加的层的名称，Abbv 是层次名称的缩写，Number 是系统给层次分配的内部编号。系统保留 128-256 之间的数字作为其内部编号。 完成上述准备工作后，便可以开始绘制非门的版图了。下一节将详细介绍绘制的具体步骤和注意事项。 --- 以上内容基于给定的部分内容进行了扩展和补充，详细介绍了如何使用 Cadence cdsSPICE 创建和编辑版图文件，特别是针对非门版图的具体步骤和所需准备工作的介绍。希望这些信息对您有所帮助。